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HPD-2400生產(chǎn)型設備 次大氣輝光放電處理機

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單價: 面議
起訂:
供貨總量:
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 江蘇 南京市 白下區(qū)
有效期至: 長期有效
最后更新: 2019-01-25
瀏覽次數(shù): 509
詢價
公司基本資料信息
 
 
產(chǎn)品詳細說明
 規(guī)格:
1. 型號:HPD-2400;
2. 電源:三相AC380V(±10%)
3. 功率:1000VA;
4. 電極尺寸:500mm×450mm;
5. 設備尺寸:720(W)×1360(H)×765(D)mm
6. 設備重量:180kg
7. 腔體壓力:500~3000Pa
用途:
1. 酶標板、細菌計數(shù)培養(yǎng)皿、細胞培養(yǎng)皿、組織培養(yǎng)皿的親水處理。經(jīng)過等離子體處理后細菌培養(yǎng)皿表面由疏水變?yōu)橛H水,并獲得支持細胞黏附鋪展的能力.并適用于細胞培養(yǎng)。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗證,處理過的樣品表面完全被水潤濕。
2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理
3. 等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂。
 
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